基坑工程防渗处理
当基坑处于地下水位以下,进行基坑开挖时,由于地下水位高于基坑底面,因此会出现地下水流入坑内,使土方开挖及地下室施工困难,同时坑外地下水位会下降,如进行坑内降水和排水,更会降低坑外地下水位,导致坑外地面不均匀下沉,会使周围建筑物、道路、各类地下管线、地下建筑物发生不均匀下沉、变形而导致受损甚至破坏。其次,由于坑内外的水头差,会导致坑外地下水向坑内渗流,在细粒土如粉质黏土、粉土、粉细砂中有可能造成管涌、流沙等现象。因此,当环境条件不允许坑外地下水位下降,为保证边坡稳定、防止出现管涌、流沙时,需要采取地基防渗措施,阻断坑外地下水向坑内的渗流。
光
1)光的双折射现象
光通过各向异性晶体,出现两束折射光线,这种现象称为双折射现象。其中一束光线遵从折射定律,称为寻常光线,用ο表示,也称ο光;另一束光线不遵从折射定律,称为非常光线,用e表示,也称e光。出现双折射现象的原因是由于ο、e光在晶体中沿各个方向的传播速度不同(因而折射率也不同)。
2)光轴
光沿某一特定方向通过各向异性晶体时,不产生双折射现象,在这个方向,ο、e光的传播速度相同,这个特定的方向就是晶体的光轴。注意,光轴代表一个方向,而不是一条直线。
3)主截面
通过光轴并与晶体的任一晶面正交的面称为该晶体的主截面。
当入射光线在主截面内时,ο、e光均在主截面内,但ο光的振动方向垂直于主截面,e光的振动方向平行于主截面,ο光和e光都是偏振光。
地下水作用
①地下水量的增加,使土体含水量增大,滑动面上的抗滑力减少而下滑。由实验可知,黏性土的抗剪强度随土的含水量增加而显著减少。
②地下水位的增高,使土体的重度增大,浸湿范围加大,浸湿程度加剧,降低山坡体土的黏聚力。在黏性土层中最易沿此层发生滑动。
③地下水流速的加大,促使土的潜蚀作用,破坏了坡体的稳定性而滑动。
④地下水动水压力和静水压力都是助长滑动的因素。
更多精彩资讯请关注查字典资讯网,我们将持续为您更新最新资讯!
上一篇:2015年岩土工程师《普通化学》要点精选... 下一篇:2015年湖北省市县乡考试录用公务员公告